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OHKURA/大倉單元/數(shù)字 pH 計SP4200C

OHKURA/大倉單元/數(shù)字 pH 計SP4200C
該設備是一種化學去除 pH 電極上的水垢的設備,專為超聲波清洗或水射流清洗無效的場合而開發(fā)。 它是以前手動進行的全自動化學溶液清洗,定期注入化學溶液,通過鼓泡清洗,收集化學液體。 對煙氣脫硫設備中的pH測量特別有效。 該裝置由控制面板、沖洗器(包括電極支架)、化學罐和保持放大器(可選)組成。
長處
■控制面板內(nèi)置順序電路和電磁閥,確定
測量和清

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質:經(jīng)銷商
  • 更新時間:2025-09-01
  • 訪  問  量:121
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該設備是一種化學去除 pH 電極上的水垢的設備,專為超聲波清洗或水射流清洗無效的場合而開發(fā)。 它是以前手動進行的全自動化學溶液清洗,定期注入化學溶液,通過鼓泡清洗,收集化學液體。 對煙氣脫硫設備中的pH測量特別有效。 該裝置由控制面板、沖洗器(包括電極支架)、化學罐和保持放大器(可選)組成。
長處

■控制面板內(nèi)置順序電路和電磁閥,確定
測量和清洗周期。

■化學罐 它由
罐、棧橋和電磁閥組成。

■沖洗器 來自
控制面板的信號將電極支架抬起,在電極附近形成一個空間,用于注入和收集化學溶液。

■保持(可選)本
機在清洗時間內(nèi)保持清潔前的 pH 值,并通過控制面板的信號維持 pH 值。

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